Podemos fijar imágenes fotográficamente, haciendo uso de la emulsión fotosensible de las planchas de offset. Para lograrlo nuestras imágenes tienen que ser dibujadas directamente, fotocopiadas o impresas digitalmente sobre filminas transparentes o papeles semitransparentes. Luego son expuestas a la luz de la insoladora y reveladas. Posteriormente se siliconan, se procesan y se imprimen manualmente.
Se puede agregar imagen con la variante de la puntaseca litográfica, es decir rayando con una punta o cepillo de metal la superficie de silicona (una variante contemporánea del aguafuerte litográfico mencionado por Alois Senefelder en su célebre "L'Art de la Lithographie", 1819).
La fotolitografía offset sin agua (con reserva de silicona) fue la opción técnica inventada por la Empresa 3M (Minesota, EEUU) en los años '60 del S. XX. En 1990 el canadiense Nik Semenoff inicia su investigación para aplicar la técnica en el taller de grabado artístico.
Pablo Delfini
2011
(actualizado 2018)
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| La Profesora Laura Chicopar cortando las planchas al tamaño deseado. |
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| El Profesor Esteban Alcobruni insolando planchas. |
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| Insolado de planchas. Luz halogéna de 500 watts a 30 cm de la mesa. |
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| Insolado de dibujo en papel de calcar. |
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| Revelado en el líquido revelador. Usar guantes protectores. | |
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| La Profesora Natalia Menchón revela una plancha fotolitográficamente |
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| La Profesora Ana María Gelso incorporando imagen sobre la silicona con Puntaseca litográfica. |
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| Tiraje de la litografía sin agua de la Profesora Petra Hernández |
